稀土抛光粉(rare earth polishing powder)也叫氧化铈抛光粉，是指一种以氧化铈为主体成分用于提高制品或零件表面光洁度的混合轻稀土氧化物的粉末。通常以氟碳铈矿精矿(含RE2O3≥70%)或可溶性稀土盐类(含CeO2/RE2O3=45%~50%的氯化稀土或含CeO2>80%的富铈稀土化合物)为原料，经化学法处理、灼烧、粉碎、筛分等过程制成。这里给大家介绍一下稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。
    对于一定组分和加工工艺的稀土抛光粉，平均颗粒尺寸越大，则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下，颗粒尺寸约为 4µm 的抛光 粉磨削速度*大。相反地，如果抛光粉颗粒平均粒度小，则磨削量减少 ，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，标准抛光粉一般有较窄的粒度分布，太细和太粗的颗粒很少，无大颗粒的抛光粉能抛 光出高质量的表面，而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。此外，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分，稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术， 稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般 将超细粉体分 3 种：纳米级 (1nm ～ 100nm); 亚微米级 ( 100nm ～ 1µ ｍ ) ; 微米级 ( 1µm ～ 100µｍ ) ，据此分类方法，稀土抛光粉可以分为： 纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土 抛光粉 3 类，通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度分布在 1µ ｍ～ 10µ ｍ之间 ，稀土抛 光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的*后工序，进行精磨 ，因此其粒度分布一般不大于10µ ｍ，粒度大于 10µ ｍ的抛光粉 ( 包括稀土抛光粉 ) 大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于 1µ ｍ的 亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米 级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。